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半導体製造装置用 セラミックヒーター

高熱伝導率と耐プラズマ性を活かした高性能加熱用ヒーター
半導体製造装置用 セラミックヒーター

窒化アルミニウムの持つ耐プラズマ性、高熱伝導性を活かした、プロセスチャンバ内で使用されるウェハー加熱用ヒーターです。99.9%以上の高純度と均熱性を両立させています。

キーワード:
高熱伝導性
耐プラズマ性
均熱性

製品データ

材質 窒化アルミ
サイズ φ200 ⁄ 300mm装置用

用途例

  • ウェハー加熱用ヒーター

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