半導電性
セラミックコーティング
京セラが新たに開発した半導電性セラミックコーティングは、基材表面に半導電性を有するセラミック溶射膜を成膜することで除電機能を付与する技術です。膜厚が50μm以下であれば、通気性を有するため多孔質セラミックスを用いたウェハー吸着用部品などで、静電気破壊を防止することを目的としてご採用いただいております。
特長
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半導電性の付与が可能成膜面の線抵抗値を105 ~1010[Ω]の範囲内に収めることが可能
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安定した線抵抗値同一成膜面内での線抵抗値のバラつきが小さい
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高精度な平面度加工が可能高剛性・高硬度のセラミック溶射膜につき、成膜後のラップ加工が可能
安定した線抵抗値
成膜面内のバラつきが小さく、安定した線抵抗値を実現できます。
測定条件
印加電圧: | 100V |
測定間距離: | 10mm |
→実測値: | 107台[Ω] |
※社内測定結果の一例となり、製品スペック、使用条件により結果は異なります。
成膜条件
成膜サイズ:要相談(直径12インチまで実績あり)
膜厚:500μm以下
※溶射セラミック材料の種類によって異なります。
※50μm以下であれば、多孔質材へ施工した場合に通気性を確保できます。
形状が複雑な場合は、施工が難しいことがありますので、ご相談ください。
成膜プロセス
ウェハーチャックへの成膜イメージ
施工例
ウェハー搬送パッドや、プロセス用のウェハーチャックなど、除電機能が必要とされる部品への施工実績があります。
ハンドリングアームへの施工も可能です。
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ウェハー搬送パッド
サイズ: Φ128 × t10 (mm) 基材: アルミナ(A479)
+多孔質アルミナ(#100)膜厚: 50μm -
プロセス用ウェハーチャック
サイズ: Φ235 × t30 (mm) 基材: アルミナ(A479)
+多孔質アルミナ(#100)膜厚: 50μm
本ページに記載の数値は全て社内測定による代表値であり、製品の仕様を保証する値ではありません。